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信紘科X工研院 產研合作推動ESD-DLC鍍膜技術 搶攻先進封測商機
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▲工研院與信紘科(6667)共同發表靜電消散類鑽碳(ESD-DLC)膜層鍍膜技術,圖左至右為漢泰先進材料協理蘇俊鳴、信紘科技行政副總王怡文、信紘科技研發副總陳艷程、信紘科技董事長簡士堡、工研院材化所副所長陳哲陽、工研院金屬複材組組長陳興華、工研院高階鍍膜實驗室經理蕭威典。(圖/工研院提供)

 


【視傳媒記者羅蔚舟/苗栗報導】
在經濟部技術處科技專案支持下,信紘科技股份有限公司(以下簡稱“信紘科”或“本公司”,股票代碼:6667)攜手工研院合作開發,發表最新之靜電消散類鑽碳(Electro-Static Dissipative Diamond-Like Carbon,ESD-DLC)膜層鍍膜技術,成功運用先進表面改質技術於先進半導體封測載板、載盤上,取代習用硬陽處理,因碰撞或是其他清洗因素造成膜層剝離而產生之靜電防護破口,推進台灣先進封測產業邁出新的一哩路。

 

▲工研院與信紘科(6667)攜手合作開發,並於今日發表最新之靜電消散類鑽碳(ESD-DLC)膜層鍍膜技術,成功運用先進表面改質技術於先進半導體封測載板、載盤上,推進台灣先進封測產業邁出新的一哩路。(圖/工研院提供)

 

信紘科董事長簡士堡表示,榮幸與工研院共同研發ESD-DLC最新技術,讓台灣的產研合作有更多的新火花,信紘科以期雙方開發成果之展現,不僅為台灣半導體產業鏈創造領先全球的機運,亦增加市場拓展的範疇,齊步搶攻先進封裝測試與半導體市場更多的市場份額,並對整體營運帶來正面的挹注。

 

經濟部技術處表示,台灣在世界半導體供應鏈中扮演不可或缺的角色,面對國內世界級大廠對產品升級的需求,經濟部技術處積極投入半導體創新科技研發,以科技專案支持工研院與國內半導體設備及廠務業者信紘科技合作,研發新一代靜電消散類鑽碳膜層鍍膜技術,透過多層結構設計及耐蝕膜層製程技術,解決傳統封裝製程的靜電防護難題,大幅提高製程良率及產品使用壽命,協助廠商突破表面改質技術門檻,提升半導體產業國際競爭力。

 

工研院材料與化工研究所所長李宗銘指出,近年來因國際環保意識提升,國際大廠紛紛要求供應鏈符合綠色製程,工研院以物理氣相沉積法(Physical vapor deposition,PVD)為基礎開發的真空高階鍍膜技術,可應用於LED 載盤、晶圓及IC封裝載盤等高價值產品,對比傳統硬陽處理及鐵氟龍噴塗製程,具有高良率、低汙染、高附著力、可循環及低溫製程等特性,並透過特殊膜層結構設計,使產品可客製化調控表面電性,在硬度、附著力、耐磨耗及耐化學腐蝕性等具有優異表現,目前已通過產品應用驗證,協助台灣產業升級,搶攻高階先進半導體市場。

 

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